三星自信五年超越台积电,用二纳米制程对决I
导读:IT资讯IT资讯三星Samsung近期极力发展半导体制造技术,但时至今日,在先进制程上仍难与台积电制造抗衡。话虽如此,Samsung 执行长庆桂显喊话,宣称将可无视目前落后的制电脑技术定义itss知识库管理和使用制度。
三星Samsung近期极力发展半导体制造技术,但时至今日,在先进制程上仍难与台积电制造抗衡。话虽如此,Samsung 执行长庆桂显喊话,宣称将可无视目前落后的制造技术,在 5 年内超越台积电,成为领先全球的半导体制造公司,而其中的关键就在于 2 纳米制程。
韩国经济日报援引庆桂显昨日于韩国科学技术院 KAIST 的演讲,说明虽然 Samsung 现在的半导体制造技术仍落后于台积电 1 至 2 年的时间,但若台积电加入 2 纳网站建设多少钱米制程的技术竞赛,Samsung 反倒能后来居上。
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这是因为不同于台积电采用的鳍式场效电晶体 FinFET 架构 ,Samsung 目前已为 3 纳米制程导入了闸极全环电晶体 GAA百度seo网站优化FET 架构。而在 2 纳米制程上,有报道指出台积电也计划采用 GAAFET,换言之,Samsung 已比台积电更早将 GAA 技术实用化。传出三星翻盖手机 Galaxy Z Flip 4 涨价,基本款售价1080欧元起
然而这是否代表 Samsung 能够在 2 纳米制程拿下市场仍有待观察,因为目前 Samsung 以 GAAFET 制造的 3 纳米芯片良率不佳,再者,双方预计大量生产 2 纳米芯片的时间点皆落在 2025 年,Samsung 即便更早将 GAAFET 投入生产,能否克服技术障碍却不得而知。
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